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Ralf Bergsträßer
Atomic Layer Deposition von Siliciumdioxid auf nanoskaligem Titandioxid mit Siliciumtetrachlorid als Precursor
- ein kontinuierliches, katalysatorfreies und industriell umsetzbares Verfahren -
ISBN 978-3-8322-6293-8, Deutsch, Paperback,
208 Seiten,
21 x 14,8 cm, 309 g, 111 Abbildungen,
48,80 € / 97,60 SFR
Juni 2007
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