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April 2010
Taras Vynnyk
REM-Topografiemessungen an mikro- und nanostrukturierten Oberflächen
Schlagwörter: Rasterelektronenmikroskop; Photometrische Methode; „Shape from Shading“; Sekundärelektronen; Rückstreuelektronen; Fourier 3D-Integration; Messtechnik; Rasterelektronenmikroskopie
Berichte aus dem Institut für Mess- und Regelungstechnik der Leibniz Universität Hannover
Herausgegeben von Prof. Dr.-Ing. E. Reithmeier, Hannover
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