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978-3-8322-2352-6
45,80 €
ISBN 978-3-8322-2352-6
Paperback
144 Seiten
213 g
21 x 14,8 cm
Deutsch
Dissertation
Januar 2004
Lars Dreeskornfeld
Herstellung und Charakterisierung von ultradünnen SOI-MOSFETs mit sub-50 nm Gatelängen
Schlagwörter: SOI-MOSFET; Fully-Depleted SOI; Partially-Depleted SOI; Electron Beam Lithography; Dry Etching; MORI; sub-50 nm
Selected Topics of Electronics and Micromechatronics Ausgewählte Probleme der Elektronik und Mikromechatronik
Herausgegeben von Prof. Dr. Gerhard Wachutka †, Prof. Dr. Doris Schmitt-Landsiedel † und Prof. Dr. rer. nat. Gabriele Schrag, München
Band 9
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